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高分子發(fā)泡材料研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
產(chǎn)品型號:GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2026-03-27
訪 問 量:14
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高分子發(fā)泡材料研磨分散機
目前,高分子發(fā)泡材料廣泛應(yīng)用于隔熱、隔音、減震、制鞋等領(lǐng)域。目前常用的高分子材料發(fā)泡方式有物理發(fā)泡和化學(xué)發(fā)泡。化學(xué)發(fā)泡法是指將化學(xué)發(fā)泡劑與高分子材料共混后,在一定溫度下,化學(xué)發(fā)泡劑受熱分解,產(chǎn)生氣體,膨脹,使高分子材料發(fā)泡,目前加熱方式主要還是電加熱方式,由于電加熱過程是通過熱傳導(dǎo)使高分子材料加熱,即首先通過電熱板將發(fā)泡模具加熱,發(fā)泡模具將熱量再傳遞給模腔內(nèi)的發(fā)泡材料,存在能耗高,加熱時間長,易出現(xiàn)局部加熱溫度過高而部分區(qū)域仍存在加熱死角等問題。
太倉希德的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將希德機械膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SID研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
di一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的 10%。 | |||||
高分子發(fā)泡材料研磨分散機
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